正相涂敷型固定相

Chiral ND,ND(2), NC(2),NJ(2),NQ(2),NS(2),NT(2),NX(2), NY(2),NZ(2), MB(2), MC(2), MF(2), MG(2), MD,MD(2),MJ(2),MQ(2),MS(2),MX(2),MY(2), MZ(2)

正相鍵合型固定相

Chiral INA, INB, INC,INE,INF,ING,INH, INJ,INK,INM

反相涂敷型固定相

Chiral ND(2)-RH, NC(2)-RH,NJ(2)-RH, NQ(2)-RH, NS(2)-RH,NX(2)-RH, NY(2)-RH,NZ(2)-RH, MD(2)-RH,  MJ(2)-RH, MQ(2)-RH,MX(2)-RH, MZ(2)-RH, MS(2)-RH, MY(2)-RH

酸性樣品

堿性樣品

常規一般使用

三氟乙酸，甲酸

(0.1%-0.5%)

二乙胺

(0.1%-0.5%)

考慮繼續調整峰形使用

甲磺酸

(0.1%)

三乙胺、乙醇胺、正丁胺(0.1%-0.5%)

特別需要時，酸性與堿性添加劑可以同時添加，建議各0.1%

添加劑適合正相以及SFC超臨界流體，以及反相（反相應用時，建議0.05%-0.1%）

１

2

起始條件

HEX:IPA=80:20

HEX:EtOH=80:20

調整范圍

HEX 99%至50%之間

HEX 99%至50%之間

HEX:正己烷，IPA:異丙醇，EtOH:無水乙醇

HEX比例增加，保留時間會變長

IPA與EtOH一般比例不超過50%，遇到極性特別大的樣品，允許最高至95%，正常情況控制在50%以下

起始柱溫為25℃，起始流速建議在0.8ml/min左右。有條件的情況下，溫度在5-25℃內調整，對分離度可能產生大的影響。溫度低有時利于拆分，溫度高，出峰快，峰形可能更尖銳

Chiral MF(2), Chiral MG(2)流動相中不能用乙醇

正相涂敷型手性固定相不能接觸下列溶劑：甲基叔丁基醚(MtBE)，二氯甲烷(DCM)，四氫呋喃(THF)，乙酸乙酯(EtOAc)，氯仿(CHCl3)，丙酮等

１

２

起始條件

HEX:IPA=80:20

HEX:EtOH=80:20

調整范圍

HEX 99%至50%之間

HEX 99%至50%之間

3

4

起始條件

MtBE:EtOH=98:2

HEX:DCM=50:50

調整范圍

MtBE 98%至60%之間

HEX 85%至50%之間

5

6

起始條件

HEX:THF=70:30

HEX:EtOAc=50:50

調整范圍

HEX 99%至70%之間

HEX 99%至50%之間

7

8

起始條件

HEX:CHCl3=30:70

ACN:IPA(或MeOH)＝100:0

調整范圍

HEX 60%至100%之間

ACN 100%至90%之間

HEX比例增加，保留時間會變長

除了上述溶劑，溶解與洗脫的必要性下，丙酮以及1,4二氧六環也可使用

起始柱溫為25℃，起始流速建議在0.8ml/min左右。有條件的情況下，溫度在5-25℃內調整，對分離度可能產生大的影響。溫度低有時利于拆分，溫度高，出峰快，峰形可能更尖銳

酸性及兩性化合物

堿性化合物

中性化合物

水相 40%

0.1%甲酸水

0.1% TFA

水

0.1% TFA水

PH=2  100mM高氯酸鈉水溶淮

PH=2.5 50mM磷酸緩沖鹽

PH=2.5 100mM六氟磷酸鉀水溶液

0.1%磷酸水

20mM碳酸氫銨水溶液（PH=9）

PH=2  100mM高氯酸鈉水溶液

20mM碳酸氫銨水溶液（PH=9），含0.1% DEA

PH=2  100mM六氟磷酸鉀水溶液

有機相 60%

ACN, MeOH, IPA

常規清洗

HEX:IPA=80:20  0.4ml/min 1-2小時并直接保存

柱效下降，峰形不正常時可能的特殊殘留物清洗，再生

酸性殘留

堿性殘留物

性質不確定的殘留物

EtOH(0.1% DEA) 0.2ml/min  2小時

EtOH(0.1% TFA) 0.2ml/min  2小時

第1步EtOH(0.1% TFA) 0.2ml/min  2小時

第2步EtOH(0.1% DEA) 0.2ml/min  2小時

清洗完畢后，再用HEX:IPA=80:20  0.4ml/min 1小時，并按COA測試后直接保存

EtOH不適用于Chiral MF(2)與Chiral MG(2)固定相。Chiral INB, INC可用EtOAc再生

說明：如果是柱頭堵塞與污染，可以0.2ml/min流速倒沖

常規清洗

ACN:H2O=10:90 0.5ml/min 1小時，ACN:H2O=90:10 0.5ml/min 1小時,保存于ACN:H2O=75:25（或60:40）體系中

柱效，柱壓，峰形問題時，特殊殘留物的清洗，再生

第１步：MeOH:H2O=10:90(含0.1% TFA ) 0.2ml/min 1小時

第２步：MeOH:H2O=90:10(含0.1% TFA ) 0.2ml/min 1小時

第３步：MeOH:H2O=99:1(含0.1% TFA )  0.2ml/min 2小時

第4步：ACN:H2O=75:25  0.5ml/min 30分鐘，并按COA測試后直接保存

說明：如果是柱頭堵塞與污染，可以0.2ml/min流速倒沖

所有正，反相手性柱啟用時，建議流動相下0.2ml/min流速先運行10分鐘，再提升到0.5ml/min流速運行5分鐘，再提升到需要運行的流速

正相涂敷型與鍵合型手性柱，都可以在正相體系，SFC體系(甲醇與液態二氧化碳體系)以及PO極性體系（純ACN或純MeOH為流動相，或者含5%的IPA）切換使用。從一種體系切換到另一種體系時，需用20倍柱體積的IPA以0.2ml/min沖洗以切換。按250*4.6mm柱計算，20倍柱體積約50ml

鍵合型手性柱，出廠在正相體系中，如果要轉化為反相柱使用，需用20倍柱體積的IPA以0.2ml/min沖洗后，再用反相體系沖洗轉化為反相柱，之后按反相柱的操作進行。一旦轉化為反相手性柱，則不能再切換回正相

適用PH范圍為2-９

適用溫度范圍為0-40℃

適用壓力上限為300bar

可供應色譜柱，制備柱產品的粒徑為 3u, 5u, 10u，內徑為2.1mm, 3.0mm, 4.6mm,10mm, 21.2mm, 30mm, 50mm，長度為50mm, 100mm, 150mm, 250mm

可供應的填料粒徑為10u

溶劑

UV截止波長

溶劑

UV截止波長

HEX

200nm

IPA

205nm

EtOH

210nm

MeOH

205nm

ACN

190nm

H2O

小于190nm

DCM

233nm

EtOAc

256nm

MtBE

210nm

THF

212nm